Монокристаллическая силиконовая Вафля/15,0*30,0*2,0 мм Кремниевая подложка/двухсторонняя полированная

Монокристаллическая силиконовая Вафля/15,030,02,0 мм Кремниевая подложка/двухсторонняя полированная

6 418 руб.

Описание

ОдиночныйБоковой полировка монокристаллическая силиконовая

Технические характеристики:

Монокристаллическая Кремниевая подложка

1. Длина 15 мм, Ширина 30 мм толщина 2 мм

2. Двухсторонняя полированная

3,100 штук P Тип 100 штук N Тип

4.Допинг ЭлTP типа BТип N-P

Материал:

Высокая чистота монокристаллического кремния, двухсторонняя полировка, сопротивление: 0,0001-100

Область применения:

1. PVD/CVD покрытие подложки

2. Используется в качестве XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), AFM (атомный силовой микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентный спектроскопия и другие аналитические тестовые субстраты

3. synchrotron радиационный экспериментальный носитель образцов

4. Подложка для молекулярного пучка эпитаксиального выращивания

5. Процесс полупроводниковой литографии и так далее

Монокристаллическая силиконовая Вафля/15,0*30,0*2,0 мм Кремниевая подложка/двухсторонняя полированная

Характеристики

Габаритные размеры: 15.0*30.0*2.0mm

Стандартный: GB

Номер модели: Single crystal silicon wafer

Наличие стандарта: Стандарт

Материал: Si